[发明专利]光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液及其制备方法

摘要

本发明公开一种光通讯ZrO2陶瓷插芯表面CMP抛光液及其制备方法，抛光液组成为：铈的氧化物0.5～12%、氧化铝0.1～4%、润湿调节剂0.01～0.1%、分散剂0.05～2%、分散稳定剂0.01～4%、辅助表面活性剂0.005～0.5%，余量为去离子水。制备时将铈的氧化物和氧化铝加入到搅拌分散器中，加入部分去离子水、润湿调节剂，搅拌均匀，加入其余添加剂和余量去离子水，继续搅拌，调节pH值至2～5，经超声波分散后即可。本发明的抛光液解决了传统CMP技术中使用单一无机磨料抛光效率和抛光精度不协调的矛盾，达到单一磨料无法达到的抛光效果，不仅提高了抛光效率，同时提高了抛光精度，具有良好的应用性能。

主权项

一种光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液，其特征是：以重量百分比表示，原料为：铈的氧化物0.5～12%、氧化铝0.1～4%、润湿调节剂0.01～0.1%、分散剂0.05～2%、分散稳定剂0.01～4%、辅助表面活性剂0.005～0.5%，余量为去离子水。