[发明专利]一种靶材级超高纯钽金属的制取方法有效
申请号: | 201110316023.X | 申请日: | 2011-10-09 |
公开(公告)号: | CN102382993A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 张宗国;郝义田;钟岳联;张劲;唐亮 | 申请(专利权)人: | 广东致远新材料有限公司 |
主分类号: | C22B34/24 | 分类号: | C22B34/24;C22B5/04 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 罗晓林;李志强 |
地址: | 513055 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种靶材级超高纯钽金属的制取方法,该方法在钽湿法冶金中增加了再结晶工艺,有效地降低了高熔点金属杂质和放射性元素的含量。即通过将工业K2TaF7投入到纯净的稀HF溶液中,控制结晶HF浓度、温度80~90℃和钾盐过量5~10%,自然冷却后到35~45℃后通水冷却到室温,过滤时用PH9的溶液和无水乙醇洗涤,从而有效地去除了高熔点金属、过渡金属、以及铀、钍、碳、氧等杂质;然后于钽火法冶金中,有效去除了Si、防止了Fe、Ni、Cr污染,在钽精炼中进一步去除了3000℃以下的低熔点金属,有效地降低了C、N、O的含量。节省了电子束炉精炼次数,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 靶材级超 高纯 金属 制取 方法 | ||
【主权项】:
一种靶材级超高纯钽金属的制取方法,该方法的步骤为,1)对工业级氟钽酸钾K2TaF7采用湿法冶炼再结晶提纯,工艺路线为,用氢氟酸HF溶液溶解工业级K2TaF7,按理论量过量补入钾离子溶液,使K2TaF7再结晶,对该K2TaF7再结晶体碱洗并烘干后获得偏酸性K2TaF7结晶体;2)对获得的偏酸性K2TaF7结晶体采用火法冶炼还原,工艺路线为将K2TaF7结晶体用钠Na还原成钽粉,而后经水洗、酸洗、热处理制取超高纯钽粉。
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