[发明专利]改进等离子均匀性和效率的电感耦合等离子装置无效
| 申请号： | 201110319252.7 | 申请日： | 2011-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN102395243A | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 石刚;许颂临;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电感耦合等离子反应器，其中，包括封闭壳体，其中所述封闭壳体的至少部分顶板由绝缘材料制成的绝缘材料窗。基片支撑装置，设置于所述封闭壳体中的所述绝缘材料窗的下方。射频功率发射装置位于所述绝缘材料窗上方，以发射射频功率穿过所述绝缘材料窗进入到所述封闭壳体中。多个气体注入器均匀分布在所述基片支撑装置上方，以提供处理气体到所述封闭壳体。环形挡板，设置于所述封闭壳体内以及所述基片支撑装置的上方和所述多个气体注入器的下方，以引导所述处理气体的流动。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 等离子 均匀 效率 电感 耦合 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子反应器，其中，包括：封闭壳体，其包括顶板，所述顶板构成一绝缘材料窗；基片支撑装置，设置于所述封闭壳体内的绝缘材料窗下方；射频功率发射装置，设置于所述绝缘材料窗上方，以发射射频能量到所述封闭壳体内；气体注入器，用于向所述封闭壳体内供应处理气体，挡板，设置于所述封闭壳体内以及所述基片支撑装置上方和所述气体注入器下方，以限制处理气体的流动。所述挡板包括嵌入其中的次级射频天线。
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