[发明专利]记录装置和圆点位置控制方法无效

专利信息
申请号: 201110326691.0 申请日: 2011-10-19
公开(公告)号: CN102456362A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 堀米顺一;出冈良彦 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/095 分类号: G11B7/095;G11B7/126
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 王安武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及记录装置和圆点位置控制方法。该记录装置包括光照射与光接收单元,该光照射与光接收单元对光记录介质照射第一光和第二光,其中该光记录介质具有基准面和记录层,该记录层形成在不同于该基准面的深度位置处,其中在该基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔并且沿半径方向配置的凹坑列,并且该凹坑列通过将该凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位,该第一光用作对该记录层的记录光,该第二光用以获得来自该基准面的反射光,并且该光照射与光接收单元接收来自该基准面的该第二光的反射光。
搜索关键词: 记录 装置 位置 控制 方法
【主权项】:
一种记录装置,其包括:光照射与光接收单元,所述光照射与光接收单元经由共同的物镜对光记录介质照射第一光和第二光,其中所述光记录介质具有基准面和记录层,所述记录层形成在不同于所述基准面的深度位置处,其中在所述基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔、呈螺旋形或同心形并且沿半径方向配置的凹坑列,并且所述光记录介质通过将所述凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位,所述第一光用作对所述记录层的记录光,所述第二光用以获得来自所述基准面的反射光,并且所述光照射与光接收单元接收来自所述基准面的所述第二光的反射光;跟踪机构单元,所述跟踪机构单元使所述物镜在所述半径方向上的位置发生改变;时钟生成单元,所述时钟生成单元基于所述光照射与光接收单元在接收所述第二光的反射光过程中所获得的光接收信号,生成与所述凹坑可成形位置的间隔相应的时钟;定时选择信号生成单元,所述定时选择信号生成单元基于由所述时钟生成单元生成的所述时钟来生成多个定时选择信号,其中所述多个定时选择信号分别表示所述凹坑可成形位置相对于形成在所述光记录介质中的各个相位的凹坑列的定时;跟踪误差信号生成单元,所述跟踪误差信号生成单元被构造为,当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列中选择的作为跟踪伺服目标的凹坑列是目标凹坑列,并且当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列的各自中间位置中选择的作为跟踪伺服目标的中间位置是目标中间位置时,能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标凹坑列具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列的定时选择信号,通过在用于选择凹坑列的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持,并且通过计算被采样与被保持的数值之差,来实施第一跟踪误差信号的生成,其中所述第一跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点相对于所述目标凹坑列在半径方向上的位置误差;以及能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标中间位置具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列间位置的定时选择信号,通过在用于选择凹坑列间位置的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持,并且通过计算被采样与被保持的数值之差,来实施第二跟踪误差信号的生成,其中所述第二跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点位置相对于所述目标中间位置在半径方向上的位置误差;跟踪伺服控制单元,所述跟踪伺服控制单元基于由所述跟踪误差信号生成单元输出的所述跟踪误差信号,通过控制所述跟踪机构单元而对所述物镜执行跟踪伺服控制;偏移量施加单元,所述偏移量施加单元对包括所述跟踪伺服控制单元的跟踪伺服环路执行基于锯齿波的偏移量的施加;以及控制单元,所述控制单元通过所述跟踪误差信号生成单元来控制输出,以在与基于锯齿波的所述偏移量的极性倒换定时相应的定时处,在所述第一跟踪误差信号和所述第二跟踪误差信号之间可交替地切换。
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