[发明专利]一种Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的改进方法有效

专利信息
申请号: 201110328346.0 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN103074563B 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 邵花;王文东;夏洋;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C4/11 分类号: C23C4/11;C23C4/134;C23C4/18
代理公司: 北京华沛德权律师事务所11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及大气等离子喷涂技术领域,具体涉及一种Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的改进方法。所述改进方法,包括如下步骤步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),选择Ar和H2气体为离子气体,通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),对喷涂Y2O3涂层的基材进行低温慢退火处理。使用本发明制备的Y2O3涂层为纯正白色,色泽均匀,不再出现杂色斑点,并且具有优异的耐刻蚀性能。
搜索关键词: 一种 sub 侵蚀 陶瓷 涂层 改进 方法
【主权项】:
一种Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的改进方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),选择Ar和H2气体为离子气体,通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),对喷涂Y2O3涂层的基材进行低温慢退火处理;所述步骤(4)中对喷涂Y2O3涂层的基材进行低温慢退火处理具体包括如下步骤:首先将喷涂Y2O3涂层的基材低温送入退火设备的炉腔,缓慢加热至退火温度300℃~350℃,然后在所述退火温度下保温30min~2h,之后随炉腔冷却至室温,出炉;所述步骤(4)中退火处理的升温速度为20~40℃/h,冷却速度为20~50℃/h;其中,所述步骤(1)中的Y2O3粉末的粒度为5~50μm;其中,所述步骤(2)中对被喷涂的基材表面进行预处理,具体包括如下步骤:对被喷涂的基材表面进行喷砂处理,并用丙酮清洗;其中,所述步骤(3)中等离子体喷涂设备的电弧电压为40~50V,电弧电流为800~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为80~135mm,送粉角度为50°~90°;其中,所述步骤(3)中等离子喷涂的过程中,采用空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却所述被喷涂的基材,所述空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。
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