[发明专利]包含异质结的光电子器件无效
申请号: | 201110329046.4 | 申请日: | 2011-10-26 |
公开(公告)号: | CN102456763A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 聂辉;布兰登·M·卡耶斯;伊西克·C·奇吉尔亚里 | 申请(专利权)人: | 奥塔装置公司 |
主分类号: | H01L31/0735 | 分类号: | H01L31/0735;H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 周靖;郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明的实施方式大体涉及光电子半导体器件,例如包括太阳能电池的光伏器件。一方面,光电子半导体器件包含由砷化镓(GaAs)制成并且仅具有一种掺杂型的吸收层。发射极层比吸收层更靠近器件的背面,发射极层由与吸收层不同的材料制成,并且具有比吸收层高的带隙。异质结在发射极层和吸收层之间形成,且p-n结在发射极层和吸收层之间形成并且至少部分在与异质结偏离的位置处的不同材料内。p-n结响应于器件在器件的正面处暴露于光而在器件中引起电压产生。 | ||
搜索关键词: | 包含 异质结 光电子 器件 | ||
【主权项】:
一种光电子半导体器件,包含:吸收层,其由砷化镓(GaAs)制成且仅具有一种掺杂型;发射极层,其比所述吸收层更靠近所述器件的背面,所述发射极层由与所述吸收层不同的材料制成且具有比所述吸收层高的带隙;异质结,其在所述发射极层和所述吸收层之间形成;以及p‑n结,其在所述发射极层和所述吸收层之间偏离所述异质结的位置处形成,所述p‑n结响应于所述器件在所述器件的正面处暴露于光而在所述器件中引起电压产生。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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