[发明专利]用于真空工艺的阀有效
| 申请号： | 201110329265.2 | 申请日： | 2011-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102537373A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 李东民 | 申请（专利权）人： | 李东民 |
| 主分类号： | F16K1/00 | 分类号： | F16K1/00;F16K27/02;F16K41/10;F16K31/122;F16K51/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 曲莹 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种用于真空工艺的阀，该阀包括：第一阀体，具有入口和出口；密封单元，构造成向前移动至入口和从入口向后移动，以具有闭合位置和打开位置；轴，由波纹管覆盖，并构造成使密封单元在闭合位置与打开位置之间移动；盖，用于在密封单元处于打开位置时使波纹管避开腐蚀性气体；和盖引导单元，构造成引导盖沿着轴移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 工艺 | ||
【主权项】：
一种用于真空工艺的阀，包括：第一阀体，具有入口和出口；密封单元，构造成向前移动至入口和从入口向后移动，以具有闭合位置和打开位置；轴，由波纹管覆盖，并构造成使密封单元在闭合位置与打开位置之间移动；盖，用于在密封单元处于打开位置时使波纹管避开腐蚀性气体；和盖引导单元，构造成引导盖沿着轴移动。
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