[发明专利]对轻质反射镜压印效应误差的修正方法无效
| 申请号： | 201110329852.1 | 申请日： | 2011-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102501180A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 施春燕;范斌;徐清兰;伍凡;万勇建;张亮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;G05B19/404 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种对轻质反射镜压印效应误差的修正方法，是确定轻质反射镜压印效应的误差分布数据，把轻质反射镜对准安装在抛光机床上，确定轻质反射镜在抛光机床坐标系上的误差分布的位置；获得射流抛光轻质反射镜材料的去除函数和去除函数数据；根据压印效应的误差分布数据和去除函数数据，计算射流抛光过程中的驻留时间分布；根据轻质反射镜压印效应误差位置的分布情况，规划射流抛光误差修正过程中的射流抛光运动轨迹；基于驻留时间分布和运动轨迹，生成相应抛光机床的数控代码；开启射流抛光系统和机床数控系统，射流抛光头在数控机床的控制下，冲击射流对准轻质反射镜上不同点进行材料去除加工，从而实现轻质反射镜全口径或局部的误差修正。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 压印 效应 误差 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种对轻质反射镜压印效应误差的修正方法，其特征在于，所述修正步骤如下：步骤S1：使用干涉仪检测轻质反射镜，确定轻质反射镜压印效应的误差分布数据，把轻质反射镜对准安装在抛光机床上，根据轻质反射镜口径大小、误差分布间距和安装位置，对应确定轻质反射镜在抛光机床坐标系上的误差分布的位置；步骤S2：从误差分布的位置数据中，获得射流抛光轻质反射镜材料的去除函数和去除函数数据；步骤S3：根据压印效应的误差分布数据和去除函数数据，计算射流抛光过程中的驻留时间分布；步骤S4：根据轻质反射镜压印效应误差分布位置的情况，根据轻质反射镜单元内腔筋孔的形状，采用轨迹规划程序规划射流抛光误差修正过程中的射流抛光运动轨迹；步骤S5：基于驻留时间分布和射流抛光运动轨迹，生成相应的抛光机床数控代码；步骤S6：开启射流抛光系统和机床数控系统，射流抛光头在数控机床的控制下，冲击射流对准轻质反射镜上不同点进行材料去除加工，从而实现轻质反射镜全口径或局部的误差修正。
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