[发明专利]一种电容触屏双面电极制作方法无效
| 申请号： | 201110331335.8 | 申请日： | 2011-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102323869A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 刘明涛 | 申请（专利权）人： | 东莞市润华光电有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523795 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电容触屏双面电极制作方法，其中包括下列步骤：1、正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；2、反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；3、蚀刻正面ITO、剥离光刻胶和可剥胶；4、反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；5、正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；6、蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀MOALMO；7反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；8蚀刻反面MOALMO，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。本发明的有益效果在于：步骤（2）、（3）中用可剥胶代替光刻胶，就可以用丝印机丝印可剥胶而把高成本的黄光线空出来生产其他工序或产品，合理地利用了设备，提高产能，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电容 双面 电极 制作方法 | ||
【主权项】：
一种电容触屏双面电极制作方法，其中包括下列步骤：（1）：正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成刻胶图案；（2）：反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；（3）：蚀刻正面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶；（4）：反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案；（5）：正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；（6）：蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀MOALMO；（7）：反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案； （8）：蚀刻反面MOALMO，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。
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