[发明专利]8-bit半导体存储单元、制作方法及其存储单元阵列有效
申请号: | 201110332297.8 | 申请日: | 2011-10-27 |
公开(公告)号: | CN103094283A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 凌龙;张传宝;陈荣堂;邓霖;黄军 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L29/792;H01L21/8247;G11C11/413 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种8-bit半导体存储单元及形成方法、存储单元阵列。8-bit半导体存储单元包括一个源极区、四个漏极区、四个栅极区、四条带状半导体鳍状物以及八个电荷存储复合层;其中,四个漏极在源极外侧对称设置,且每个漏极与源极之间设置有具有沟道区域的带状半导体鳍状物;四个栅极的每一个设置在每两个相邻的带状半导体鳍状物之间,并且栅极通过具有电荷俘获层的电荷存储复合层与该栅极两侧半导体鳍状物之间的沟道区接触。因此,利用该崭新的结构,巧妙的实现了存储单元的8-bit存储,并进一步提高存储单元的存储密度。 | ||
搜索关键词: | bit 半导体 存储 单元 制作方法 及其 阵列 | ||
【主权项】:
一种8‑bit半导体存储单元,包括设置在半导体衬底上的源极区和漏极区、半导体鳍状物、栅极区,以及在所述有源区和栅极区之间的、具有电荷俘获层的电荷存储复合层,其特征在于,所述半导体存储单元包括一个源极区、四个漏极区、四个栅极区、四条带状半导体鳍状物以及八个电荷存储复合层;其中,所述四个漏极区在所述源极区外侧对称设置,且每个所述漏极区与所述源极区之间设置有具有沟道区域的带状半导体鳍状物;所述四个栅极区的每一个设置在每两个相邻的所述带状半导体鳍状物之间,并且所述栅极区通过所述具有电荷俘获层的电荷存储复合层与该栅极区两侧半导体鳍状物之间的沟道区接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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