[发明专利]一种微米级电子束焦斑尺寸的光学测量装置及其方法有效
| 申请号： | 201110338355.8 | 申请日： | 2011-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN102538670A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 严瑗;钟伟杰;张学渊;夏忠平;赵健 | 申请（专利权）人： | 上海显恒光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/24 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 何新平 |
| 地址： | 200233 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及电子技术领域，具体涉及一种光学测量装置及其方法。一种微米级电子束焦斑尺寸的光学测量方法，电子束束斑轰击半导体面板，半导体面板自发辐射，发出光束，利用光学测量方式测量光束的光强信息，进而得到电子束束斑。有益效果：由于采用上述技术方案，本发明的光学测量方法的实现方便、操作简单，具有测量速度快、溅射因素影响小、测量数据直观特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微米 电子束 尺寸 光学 测量 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种微米级电子束焦斑尺寸的光学测量装置，包括一用于将电子束进行聚焦的电子束聚焦系统，其特征在于，所述电子束聚焦系统的前方设有一采用半导体材料制成的半导体面板；还包括一光学测量装置，所述光学测量装置接收所述电子束轰击到所述半导体面板形成的出射光束；所述光学测量装置连接一微型处理器系统。
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