[发明专利]一种深度调制金属结构衍射光学元件及其设计方法无效
| 申请号： | 201110338647.1 | 申请日： | 2011-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103091750A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;辛将;朱效立;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种深度调制金属结构衍射光学元件的设计方法，该方法包括：根据入射波长λ，选择制作所述深度调制金属结构衍射光学元件的基底材料和金属材料；在所述金属材料上选择取样点，并根据入射波长确定所述取样点处要嵌入的金属方孔的深度，所述金属方孔的深度在1.5λ～2λ内自由选取；根据所述取样点的位置坐标及其所对应的金属方孔的深度，利用深度调制金属结构衍射光学元件表面任意点处的相位表达式以及所述取样点处的相位延迟、所述金属方孔深度与所述金属方孔边长之间的关系，计算金属方孔的边长。利用本发明所提供的设计方法，可以增强所述深度调制金属结构衍射光学元件的透射率，使其相对于传统衍射光学元件具有更高的衍射效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 深度 调制 金属结构 衍射 光学 元件 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种深度调制金属结构衍射光学元件的设计方法，其特征在于，该方法包括：根据入射波长λ，选择制作所述深度调制金属结构衍射光学元件的基底材料和金属材料；在所述金属材料上选择取样点，并根据入射波长确定所述取样点处要嵌入的金属方孔的深度，所述金属方孔的深度在1.5λ～2λ内自由选取；根据所述取样点的位置坐标及其所对应的金属方孔的深度，利用深度调制金属结构衍射光学元件表面任意点处的相位表达式以及所述取样点处的相位延迟、所述金属方孔的深度与所述金属方孔的边长之间的关系，计算所述金属方孔的边长。
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