[发明专利]基板处理装置及方法有效
| 申请号： | 201110339328.2 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102456532A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 尹沧老;安德烈·乌沙科夫;朴根怜;具教旭 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 韩国忠淸南道天*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供基板处理装置及方法。基板处理装置，所述基板设置于位于处理室内的基座上，而由喷头向基板供应气体。高频电源通过高频线与喷头的第一侧面连接，而可变电容器通过电线与喷头的第一侧面相对的第二侧面连接。电线中不提供高频电源。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，包括：处理室；基座，位于上述处理室内并用于放置基板；喷头，位于上述处理室内并向上述基板供应气体；高频电源，通过高频线与上述喷头的第一侧面连接；可变电容器，通过电线与和上述喷头的第一侧面相对的第二侧面连接；而在上述电线中不提供高频电源。
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