[发明专利]具有用于控制流体动态的凹槽的旋转机械有效
申请号: | 201110340314.2 | 申请日: | 2011-10-20 |
公开(公告)号: | CN102454421A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | J·M·德尔沃 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | F01D1/02 | 分类号: | F01D1/02;F01D5/02;F01D9/02;F04D29/26;F04D29/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;谭祐祥 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及具有用于控制流体动态的凹槽的旋转机械。具体而言,一种系统包括旋转机械(150),该旋转机械(150)包括定子(540)、构造成用以相对于定子(540)旋转的转子(500)、沿着定子(540)或转子(500)的圆周布置的多个轴向凹槽(520)、沿着圆周布置的多个叶片区段(502),其中,该多个叶片区段(502)中的每个叶片区段(502)包括联接到安装基部(512)上的叶片(510),该安装基部(512)被支撑在该多个轴向凹槽(520)的相应轴向凹槽(520)中,并且该多个叶片(510)围绕圆周具有非均匀的叶片间隔。 | ||
搜索关键词: | 具有 用于 控制 流体 动态 凹槽 旋转 机械 | ||
【主权项】:
一种系统,包括:旋转机械(150),所述旋转机械(150)包括:定子(540);转子(500),所述转子(500)构造成用于相对于所述定子(540)旋转;多个轴向凹槽(520),所述多个轴向凹槽(520)沿着所述定子(540)或所述转子(500)的圆周布置;多个叶片区段(502),所述多个叶片区段(502)沿着所述圆周布置,其中,所述多个叶片区段(502)中的每个叶片区段(502)包括联接到安装基部(512)上的叶片(510),所述安装基部(512)被支撑在所述多个轴向凹槽(520)的相应轴向凹槽(520)中,并且所述多个叶片围绕所述圆周具有非均匀的叶片间隔。
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