[发明专利]用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法

摘要

本发明公开了一种用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法。本发明方法包括光刻模型、光学邻近校正、散射条参数初始化，载入一维图形，计算工艺窗口得到一维向量最优解，载入二维图形，计算工艺窗口得到二维向量最优。本发明能快速确定配方，减小边放置误差，改善工艺窗口，避免散射条刻出的现象出现，提高了集成电路的生产成品率和缩短了生产周期。

主权项

用矢量化参数确定规则插入散射条配方的方法，其特征在于该方法包括以下步骤： 步骤1.光刻模型参数以及光学邻近校正初始化；所述的光刻模型参数包括光刻掩模图形输入、光刻掩膜图形的特征尺寸、光刻机的基本参数，该参数包括λ、NA和σ，其中λ是光源的波长，NA是光学系统的数值孔径，σ是照明的相干系数；光学邻近校正的基本参数如下：I0、f、Corner_Slope、Delta_E、Delta_S和Delta_I；其中，I0是光刻胶成像阈值，f是初始采样频率，Corner_Slope是拐角处切分出的线段的端点处允许的最大斜率，Delta_E是光强评估点位置的误差控制参数，Delta_S是切分点位置的误差控制参数，Delta_I是光强误差控制参数；步骤2.散射条的配方参数初始化和生成独立一维测试向量、二维测试向量；散射条的配方参数如下：In_layer、Out_layer、max_SRAF_width、max_main_CD、max_SRAF_width、 ZSRAF_space1、ZSRAF_space2、ZSRAF_space3、SRAF_to_main、 SRAF_edge_edge、SRAF_end_end、SRAF_Side_SRAF_Offset、min_SRAF_L、SRAF_Fill_Jog、SRAF_Intersection_Type；其中In_layer是输入栅层, Out_layer是输出散射条层，max_main_CD是插入散射条对应主图形最大横向厚度，max_SRAF_width是散射条最大宽度，min_SRAF_width是散射条最小宽度，ZSRAF_space1是插入一个散射条时与主图形的最小间距，ZSRAF_space2是插入两个散射条时主图形之间的最小间距， ZSRAF_space3是插入三个以及以上散射条时主图形之间的最小间距， SRAF_to_main是散射条距离主图形的最小间距， SRAF_edge_edge是散射条之间边和边的最小间距，SRAF_end_end是散射条之间线端和线端的最小间距，SRAF_Side_SRAF_Offset是散射条之间偏移的最小间距，min_SRAF_L是散射条的最小合法长度，SRAF_Fill_Jog是散射条凸边填充的开关选项, SRAF_Intersection_Type是散射条交叠处理形状的选项；所述的一维测试向量有四个，分别是散射条数量num_SRAF，散射条宽度SRAF_width、 SRAF_to_main和SRAF_edge_edge；ZSRAF_space1、ZSRAF_space2、ZSRAF_space3、max_SRAF_width、min_SRAF_width参量均可以通过上述一维测试向量直接或相互简单叠加计算得到相应值；所述的二维测试向量有三个，分别是辅助图形交叠清理SRAF_Intersection_Type、最小合理长度min_SRAF_L以及凸边填充SRAF_Fill_Jog；步骤3.载入一维图形和一维测试向量，具体是：载入一维图形，准备好要遍历的一维测试参数向量，载入的一维图形线宽从光刻掩膜图形的特征尺寸 + 10 nm开始，减小到光刻掩膜图形的特征尺寸 ‑ 10 nm为止，间隔10 nm；载入的一维图形间距从1.5倍光刻掩膜图形的特征尺寸开始，每间隔0.2 倍光刻掩膜图形的特征尺寸一组，到5.5 倍光刻掩膜图形的特征尺寸结束，一共六十三组一维图形；步骤4.遍历一维参数测试向量，具体是：遍历允许的散射条宽度SRAF_width和最小间距ZSRAF_space1，插入散射条，并做光学邻近校正；首先遍历散射条宽度SRAF_width从光刻掩膜图形的特征尺寸特征线宽的1/3开始，初始遍历每间隔10nm遍历到光刻掩膜图形的特征尺寸特征线宽的2/3；其次是最小合理间距ZSRAF_space1，从1.5倍光刻掩膜图形的特征尺寸开始，到2.5倍光刻掩膜图形的特征尺寸结束，每间隔10 nm；步骤5.选择最佳一维参数测试向量，具体是：利用焦深和剂量变化测量工艺窗口，以剂量1.1倍，1.0倍，0.9倍，和焦深正100 nm，最佳最准0 nm，负100 nm，共九个测量情形，得到边放置误差的平均值，选取最小边放置误差时候的一维参数测试向量作为最优解；步骤6.载入二维图形和二维测试向量，具体是：载入二维图形，准备好要遍历的二维参数测试向量；同时将步骤5中得到的一维参数散射条宽度SRAF_width和最小合理间距ZSRAF_space1作为固定值输入给配方；步骤7.遍历二维参数测试向量，具体是：遍历允许的交叠清理SRAF_Intersection_Type、最小合理长度min_SRAF_L以及凸边填充SRAF_Fill_Jog；这样三个二维选项进行插入散射条，并做光学邻近校正；其中SRAF_Intersection_Type分为不做交叠清理、做完全交叠清理、允许L型交叠、允许T型交叠这样四种；min_SRAF_L以最小尺寸1.5倍光刻掩膜图形的特征尺寸开始，每次递增10 nm，一直到2倍光刻掩膜图形的特征尺寸为止；而凸边填充SRAF_Fill_Jog分为不填充和填充两种；步骤8.选择最佳二维测试参数向量，具体是：利用焦深和剂量变化测量工艺窗口，以剂量1.1倍，1.0倍，0.9倍，和焦深正100 nm，最佳最准0 nm，负100 nm，共九个测量情形，得到边放置误差的平均值，选取最小边放置误差时候的二维测试参数向量作为结果；步骤9.利用步骤5中所得到的一维参数测试向量和步骤8中所得到的二维参数测试向量，即可得到散射条配方。