[发明专利]用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔无效

专利信息
申请号: 201110341640.5 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN103084051A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 庄建春 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/40;B01D53/42
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 徐丁峰;汪洋
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔,该洗涤塔包括:循环洗涤剂箱,循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板,隔板下方的循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂,隔板上设置有用于增大酸碱性排气与洗涤剂的接触面积的填料;循环泵和循环管路,循环泵通过循环管路与循环洗涤剂箱连接,用于驱动洗涤剂循环流动;以及液位计,液位计设置在循环洗涤剂箱的下部,并通过连接装置与循环洗涤剂箱连接,连接装置上设置有过滤装置。根据本发明的洗涤塔不但能够有效地防止杂物和填料的破碎物等进入液位计而将其损坏,进而避免由于洗涤塔内液位过低而影响洗涤塔的洗涤效果,还具有结构简单、对半导体厂房的酸碱性排气处理效果优异等优点。
搜索关键词: 用于 半导体 厂房 酸碱 排气 洗涤
【主权项】:
一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔,其特征在于,所述洗涤塔包括: 循环洗涤剂箱,所述循环洗涤剂箱的中部设置有多孔的隔板,所述隔板下方的所述循环洗涤剂箱用于收集洗涤剂,所述隔板上设置有用于增大所述酸碱性排气与所述洗涤剂的接触面积的填料;循环泵和循环管路,所述循环泵通过所述循环管路与所述循环洗涤剂箱连接,用于驱动所述洗涤剂循环流动;以及液位计,所述液位计设置在所述循环洗涤剂箱的下部,并通过连接装置与所述循环洗涤剂箱连接,所述连接装置上设置有过滤装置。
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