[发明专利]氮化镓基发光二极管及其制作方法无效
申请号: | 201110343101.5 | 申请日: | 2011-11-03 |
公开(公告)号: | CN102420279A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 欧毅德;尹灵峰;刘传桂;林素慧 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/38;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种氮化镓基发光二极管及其制作方法。本发明设计了双层透明导电层结构,第一层透明扩展层形成于p型半导体层上,P电极设置在外延结构层的中心区域,在p电极的四周设计了孔洞结构,孔洞结构里形成第二透明扩展层,并与n电极连接,形成一个等势面。电流从p电极注入后,通过第一透明扩展层向整个发光面扩散并由p型半导体层流向n型层,由于第二透明扩展层与n电极处于同一电势,电流向第二透明扩展层扩散,最后到达n电极。本发明保证了电流从p电极流向n电极的过程中都是均匀分布在外延发光层的,且P层的电流经过路径更短,同时改变了部分出光面的结构,从而有效地提高了发光效率。 | ||
搜索关键词: | 氮化 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
氮化镓基发光二极管,其包括:一衬底,一半导体外延层沉积在衬底上,其至下而上包括n型半导体层,有源层,p型半导体层;一第一透明电流扩展层形成于p型半导体层上;一第一电极,形成于第一透明电流扩展层上,并位于外延层的中心区域;一孔洞系列分布在第一电极的四周,其贯穿p型半导体层、有源层,底部位于n型半导体层;一第一绝缘层,形成于第一透明电流扩展层上,并向孔洞系列的侧壁延伸,覆盖第一透明电流扩展层及孔洞系列的侧壁,露出第一电极及孔洞系列的底部的n型半导体层;一第二透明电流扩展层形成于前述第一绝缘层上,并覆盖孔洞系列的底部;所述第二秀明电流扩展层与第一电极隔离;一第二电极形成于n型半导体层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门市三安光电科技有限公司,未经厦门市三安光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110343101.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种治疗糖尿病的药物
- 下一篇:肛门脱肛复位托