[发明专利]氮化镓基发光二极管及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110343101.5 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN102420279A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 欧毅德;尹灵峰;刘传桂;林素慧 申请(专利权)人: 厦门市三安光电科技有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种氮化镓基发光二极管及其制作方法。本发明设计了双层透明导电层结构,第一层透明扩展层形成于p型半导体层上,P电极设置在外延结构层的中心区域,在p电极的四周设计了孔洞结构,孔洞结构里形成第二透明扩展层,并与n电极连接,形成一个等势面。电流从p电极注入后,通过第一透明扩展层向整个发光面扩散并由p型半导体层流向n型层,由于第二透明扩展层与n电极处于同一电势,电流向第二透明扩展层扩散,最后到达n电极。本发明保证了电流从p电极流向n电极的过程中都是均匀分布在外延发光层的,且P层的电流经过路径更短,同时改变了部分出光面的结构,从而有效地提高了发光效率。
搜索关键词: 氮化 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
氮化镓基发光二极管,其包括:一衬底,一半导体外延层沉积在衬底上,其至下而上包括n型半导体层,有源层,p型半导体层;一第一透明电流扩展层形成于p型半导体层上;一第一电极,形成于第一透明电流扩展层上,并位于外延层的中心区域;一孔洞系列分布在第一电极的四周,其贯穿p型半导体层、有源层,底部位于n型半导体层;一第一绝缘层,形成于第一透明电流扩展层上,并向孔洞系列的侧壁延伸,覆盖第一透明电流扩展层及孔洞系列的侧壁,露出第一电极及孔洞系列的底部的n型半导体层;一第二透明电流扩展层形成于前述第一绝缘层上,并覆盖孔洞系列的底部;所述第二秀明电流扩展层与第一电极隔离;一第二电极形成于n型半导体层上。
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