[发明专利]磁控源和磁控溅射设备有效

专利信息
申请号: 201110343552.9 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN103088306A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 李杨超;刘旭 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种磁控源及具有该磁控源的磁控溅射设备。磁控源包括:靶材;位于靶材上方的磁控管;和与所述磁控管相连以控制所述磁控管在所述靶材上方移动的扫描机构,其中扫描机构包括:驱动器、驱动轴和主动齿轮、连杆、从动轴和从动齿轮、凸轮、导轨、滚轮、和弹性件。根据本发明实施例的磁控源,通过调整驱动轴与从动轴之间的距离,在磁控管绕凸轮运动时可以调整磁控管在靶材外围和中心处的扫描速度,从而可以提高靶材外圈的刻蚀深度,可以降低薄膜沉积时颗粒产生,提高薄膜均匀性和靶材利用率。此外,根据本发明实施例的磁控源具有结构稳定、传动平稳、操作简单的优点,因此增加了其实用性。
搜索关键词: 磁控源 磁控溅射 设备
【主权项】:
一种磁控源,其特征在于,包括:靶材;磁控管,所述磁控管位于所述靶材上方;和扫描机构,所述扫描机构与所述磁控管相连以控制所述磁控管在所述靶材上方移动,其中所述扫描机构包括:一个驱动器;一个驱动轴和安装在所述驱动轴上的主动齿轮,所述驱动轴与所述驱动器相连以由所述驱动器驱动所述驱动轴转动;连杆,所述连杆的第一端与所述驱动轴相连;一个从动轴和安装在所述从动轴上的从动齿轮,所述从动轴可枢转地安装在所述连杆的第二端,所述从动齿轮与所述主动齿轮啮合;凸轮,所述凸轮安装在所述从动轴上以绕所述从动轴自转且绕所述驱动轴公转;导轨,所述导轨的一端安装在所述从动轴上以随所述从动轴转动;滚轮,所述滚轮安装在中心轴上且所述中心轴安装在所述导轨上并沿所述导轨的长度方向可移动,所述滚轮的外周与所述凸轮的外周接触,所述磁控管与所述中心轴的下端相连;和弹性件,所述弹性件的一端与所述从动轴相连且另一端与所述中心轴相连以将所述滚轮压紧到所述凸轮上。
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