[发明专利]基于局域加热技术的圆片级低温键合系统及装置有效
申请号: | 201110343625.4 | 申请日: | 2011-11-03 |
公开(公告)号: | CN102502481B | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 毛旭;方志强;杨晋玲;杨富华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | B81C3/00 | 分类号: | B81C3/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于局域加热技术的圆片级低温键合系统及装置,该系统包括真空腔室、支架平台、键合装置、电流源和真空泵组,其中:真空腔室,用于提供键合所需的真空或惰性气氛;键合装置,位于真空腔室内部的支架平台上,用于对待键合圆片提供键合压力,并向外部电流源和待键合圆片提供电气连接通路;电流源,通过真空腔室侧壁上的电学穿通件与键合装置相连,为待键合圆片键合区域的电阻丝提供电流,实现局域电阻加热;真空泵组,连接于真空腔室底部,用于对真空腔室抽真空。本发明提供的键合系统及装置,结构紧凑,制作和组装简单,在高真空或可控惰性气体中完成键合,可避免键合过程中氧化物的形成及其对键合质量产生的不良影响。 | ||
搜索关键词: | 基于 局域 加热 技术 圆片级 低温 系统 装置 | ||
【主权项】:
一种基于局域加热技术的圆片级低温键合系统,其特征在于,该系统包括真空腔室(1)、支架平台(5)、键合装置(6)、电流源(7)和真空泵组(8),其中:真空腔室(1),用于提供键合所需的真空或惰性气氛;键合装置(6),位于真空腔室(1)内部的支架平台(5)上,用于对待键合圆片提供键合压力,并向外部电流源(7)和待键合圆片提供电气连接通路;电流源(7),通过真空腔室(1)侧壁上的电学穿通件(3)与键合装置(6)相连,为待键合圆片键合区域的电阻丝提供电流,实现局域电阻加热;真空泵组(8),连接于真空腔室(1)底部,用于对真空腔室(1)抽真空;其中,所述键合装置(6)包括螺钉(9)、螺母(10)、压力平板(11)、支撑弹簧(12)、上压盘(13)、支撑盘(14)、压力传感器(15)、平衡支撑盘(16)、底座平台(17)、稳固螺钉(18)和支撑盘引脚(19),其中:螺钉(9),与底座平台(17)连为一体,位于底座(17)中心处,用于施加键合压力;螺母(10),与螺钉(9)螺接,通过螺钉(9)与压力平板(11)接触;压力平板(11),与上压盘(13)通过支撑弹簧(12)连接,构成下压构件,该下压构件安装于支撑盘(14)和平衡支撑盘(16)上方;支撑盘(14),安装于压力传感器(15)之上,用于承载待键合的圆片,并通过支撑盘引脚(19)为键合区域的电阻丝提供电气连接通路以实现局域电阻加热;压力传感器(15),通过稳固螺钉(18)安装于底座平台(17)的一侧,用于测量键合压力;平衡支撑盘(16),通过稳固螺钉(18)安装于底座平台(17)的另一侧,用于保证下压构件在底座两侧的平衡,以实现对键合基片的均匀施压。
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