[发明专利]一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺无效
申请号: | 201110344109.3 | 申请日: | 2011-11-04 |
公开(公告)号: | CN103094405A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 孟欣;郝晓勇;张凯;刘洋;何高魁;陈国柱 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102413*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺,包括(1)CdZnTe晶体的表面处理、(2)化学腐蚀、(3)电极制备、(4)表面钝化、(5)清洗、(6)封装等工艺步骤。该发明提供了一种工艺简单、实用,制备出分辨率高的电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 电容 弗里希栅 cdznte 探测器 制备 工艺 | ||
【主权项】:
一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺,包括(1)CdZnTe晶体的表面处理、(2)化学腐蚀、(3)电极制备、(4)表面钝化、(5)清洗、(6)封装等工艺步骤,其特征在于,(1)表面处理:采用不同型号的金刚砂多次研磨抛光CdZnTe晶体,将研磨好的CdZnTe晶体用丙酮去油超声清洗、去离子水超声清洗、烘干待用;(2)化学腐蚀:将阳极面的阳极区域覆盖一层保护膜,将覆盖有保护膜的CdZnTe晶体置于溴甲醇溶液中化学腐蚀,腐蚀后的样品用甲醇淬灭,然后清洗掉保护膜、清洗CdZnTe晶体;(3)电极制备:在CdZnTe晶体阳极覆盖保护膜的区域和阴极用真空镀膜法镀Au,使阳极面积小于阴极面积;(4)表面钝化:将经过步骤(3)后的CdZnTe晶体置于氟化铵(NH4F)、去离子水和双氧水的混合溶液中,其中混合溶液中的氟化铵(NH4F)、去离子水和双氧水的比例为2.68g∶17ml∶8ml;(5)清洗:钝化后用去离子水超声清洗、甲醇脱水、烘干;(6)封装:采用绝缘膜和铜膜围绕在晶体侧面构成电容栅,引出探测器电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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