[发明专利]一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺无效

专利信息
申请号: 201110344109.3 申请日: 2011-11-04
公开(公告)号: CN103094405A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 孟欣;郝晓勇;张凯;刘洋;何高魁;陈国柱 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺,包括(1)CdZnTe晶体的表面处理、(2)化学腐蚀、(3)电极制备、(4)表面钝化、(5)清洗、(6)封装等工艺步骤。该发明提供了一种工艺简单、实用,制备出分辨率高的电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺。
搜索关键词: 一种 电容 弗里希栅 cdznte 探测器 制备 工艺
【主权项】:
一种电容弗里希栅CdZnTe探测器的制备工艺,包括(1)CdZnTe晶体的表面处理、(2)化学腐蚀、(3)电极制备、(4)表面钝化、(5)清洗、(6)封装等工艺步骤,其特征在于,(1)表面处理:采用不同型号的金刚砂多次研磨抛光CdZnTe晶体,将研磨好的CdZnTe晶体用丙酮去油超声清洗、去离子水超声清洗、烘干待用;(2)化学腐蚀:将阳极面的阳极区域覆盖一层保护膜,将覆盖有保护膜的CdZnTe晶体置于溴甲醇溶液中化学腐蚀,腐蚀后的样品用甲醇淬灭,然后清洗掉保护膜、清洗CdZnTe晶体;(3)电极制备:在CdZnTe晶体阳极覆盖保护膜的区域和阴极用真空镀膜法镀Au,使阳极面积小于阴极面积;(4)表面钝化:将经过步骤(3)后的CdZnTe晶体置于氟化铵(NH4F)、去离子水和双氧水的混合溶液中,其中混合溶液中的氟化铵(NH4F)、去离子水和双氧水的比例为2.68g∶17ml∶8ml;(5)清洗:钝化后用去离子水超声清洗、甲醇脱水、烘干;(6)封装:采用绝缘膜和铜膜围绕在晶体侧面构成电容栅,引出探测器电极。
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