[发明专利]柔性衬底上室温反应溅射沉积氮化铝压电薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201110345284.4 申请日: 2011-11-04
公开(公告)号: CN102383095A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 周剑;余德永;金浩;王德苗;冯斌 申请(专利权)人: 浙江大学;浙江百士迪科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 杭州浙科专利事务所 33213 代理人: 吴秉中
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于电子材料技术领域,特别是涉及一种柔性衬底上室温反应溅射沉积氮化铝压电薄膜的方法;其特征在于,包括以下步骤:清洗柔性衬底;抽真空;制备底金属层;充入工作气体;接通衬底冷却装置;紫外线在线辐照并反应溅射制备氮化铝压电薄膜;该方法的特点是衬底为柔性材料,制备的氮化铝压电薄膜可弯曲,膜层致密,不脱落,高c轴择优取向,并且具有制造工艺简单、可卷绕式(roll-to-roll)连续化生产、成本低廉的优点。
搜索关键词: 柔性 衬底 室温 反应 溅射 沉积 氮化 压电 薄膜 方法
【主权项】:
一种柔性衬底上室温反应溅射沉积氮化铝压电薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤:清洗柔性衬底;抽真空;制备底金属层;充入工作气体;接通衬底冷却装置;紫外线在线辐照并反应溅射制备氮化铝压电薄膜;各步骤的内容如下:清洗柔性衬底:将有机柔性衬底用电子清洗剂擦洗后,用去离子水超声清洗,再用无水乙醇超声清洗,然后干燥;抽真空:将上述经清洗的柔性衬底紧贴在磁控溅射镀膜机的真空腔中的基片冷却装置表面,抽真空,使其真空度达到10‑7~10‑3 Pa;制备底金属层:向磁控溅射镀膜机真空腔中动态地通入氩气,维持真空腔内氩气的压强在2×10‑1~8×10‑1 Pa范围内,采用磁控溅射的方法制备作为底电极或者过渡层的底金属层;充入工作气体:采用流量控制器向磁控溅射镀膜机真空腔中动态地通入氮气和氩气的混合气体,氮氩比为0.3~2,工作气体总压强为3.8×10‑1~5×10‑1 Pa;接通基片冷却装置:对衬底进行冷却,使柔性衬底在溅射过程保持低温状态;紫外线在线辐照并反应溅射制备氮化铝压电薄膜:接通紫外线辐照器进行在线辐照,并启动磁控溅射源,在已镀覆底金属层的柔性衬底上反应溅射沉积氮化铝薄膜;完成上述工艺后,向磁控溅射镀膜机真空腔中放入大气,取出样品。
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