[发明专利]一种PBN坩埚及利用其进行砷化镓晶体生长的方法无效

专利信息
申请号: 201110346402.3 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN102363897A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 金敏;徐家跃;房永征;何庆波;申慧 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/42
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种PBN坩埚及利用其进行砷化镓晶体生长的方法,属于单晶生长领域。其特点是所采用的热解氮化硼坩埚几何结构为等直径圆筒状,直径大小为50-150mm,高度为200-300mm。在垂直梯度凝固法/垂直布里支曼法生长GaAs晶体的过程中,与PBN坩埚直径相同的GaAs籽晶安装于坩埚底部,熔体在籽晶的基础上不断析晶生长,省去了传统PBN坩埚生长GaAs晶体必需的放肩过程,因而在晶体生长过程中消除了由于放肩引起的热应力及GaAs小面的快速发育,大大降低了GaAs晶体中出现多晶或孪晶的几率。
搜索关键词: 一种 pbn 坩埚 利用 进行 砷化镓 晶体生长 方法
【主权项】:
一种PBN坩埚,其特征在于所述的PBN坩埚为等直径圆筒状,坩埚一端封口,另一端开口,封口的一端为籽晶槽所处位置。
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