[发明专利]辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置无效

专利信息
申请号: 201110346860.7 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN102393383A 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 邓文渊;金春水;常艳贺;靳京城 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 张伟
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置涉及ArF准分子激光薄膜元件应用技术领域,该装置包括:ArF激光传输模块、样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块、光学薄膜样品表面损伤的实时监控与判别模块、电动样品控制台和实验同步控制与数据采集模块;本发明的显著特征是样品表面ArF激光辐射能量密度均匀性非常高,可有效提高光学薄膜元件激光损伤阈值测量结果的精确性、可靠性和可比较性,并可实现不同辐照光斑大小和不同辐照能量密度的ArF激光光学薄膜元件损伤测量,满足不同类型ArF激光光学薄膜元件损伤测试及损伤机理研究的需要。
搜索关键词: 辐照 密度 均匀 arf 激光 薄膜 元件 损伤 测试 装置
【主权项】:
辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置,其特征在于,该装置包括:ArF激光传输模块、样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块、光学薄膜样品表面损伤的实时监控与判别模块、电动样品控制台和实验同步控制与数据采集模块;所述ArF激光传输模块发射并传输辐射能量密度高均匀性的ArF激光,入射到薄膜元件样品表面;所述样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块,用于获得薄膜元件样品表面ArF激光的辐射能量密度,通过实验同步控制与数据采集模块控制其测量动作,并将ArF激光辐射能量密度信息数据传送反馈到至实验同步控制与数据采集模块;所述光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块,通过探测He‑Ne激光入射到薄膜元件样品表面上ArF激光辐照光斑位置产生的散射光强变化,对ArF激光辐照薄膜元件样品表面是否损伤进行判别,由实验同步控制与数据采集模块控制其动作,并将判别信号传送至实验同步控制与数据采集模块;所述电动样品控制台通过实验同步控制与数据采集模块发出的指令实现水平和垂直两个方向的精密移动;所述实验同步控制与数据采集模块分别对ArF激光传输模块,样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块,光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块和电动样品控制台进行同步制;收集样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块,光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块产生的信号数据,并进行数据的处理和判断。
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