[发明专利]发光二极管芯片结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110347763.X 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN102544273A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 陈俊荣;郭奇文;黄坤富;朱瑞溢;方国龙 申请(专利权)人: 隆达电子股份有限公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种发光二极管芯片结构及其制造方法,发光二极管芯片结构包括导电基板、半导体堆栈层以及图案化种晶层。导电基板具有一表面,此表面具有第一区及第二区,其中第一区与第二区交替分布于此表面。半导体堆栈层配置于导电基板上,且导电基板的表面朝向半导体堆栈层。图案化种晶层配置于导电基板的表面的第一区上,且位于导电基板与半导体堆栈层之间。图案化种晶层将第一区与半导体堆栈层分隔,且暴露出第二区。半导体堆栈层覆盖图案化种晶层与第二区,且经由第二区与导电基板电性连接。
搜索关键词: 发光二极管 芯片 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管芯片结构,包括:一导电基板,具有一表面,其中该表面具有一第一区及一第二区,该第一区与该第二区交替分布于该表面;一半导体堆栈层,配置于该导电基板上,且该导电基板的该表面朝向该半导体堆栈层;以及一图案化种晶层,配置于该导电基板的该表面的该第一区上,且位于该导电基板与该半导体堆栈层之间,其中该图案化种晶层将该第一区与该半导体堆栈层分隔,且暴露出该第二区,该半导体堆栈层覆盖该图案化种晶层与该第二区,且经由该第二区与该导电基板电性连接。
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