[发明专利]光斑位置控制装置和光斑位置控制方法无效

专利信息
申请号: 201110348428.1 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN102467925A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 堀米顺一;出冈良彦 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/09
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 王安武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及光斑位置控制装置和光斑位置控制方法,该光斑位置控制装置包括:光照射与光感应单元,其利用经由物镜的第一光照射光记录介质,并且感应来自该光记录介质的第一光的反射光,该光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔的凹坑串;跟踪机构单元,用以使该物镜平移;时钟生成单元,用以生成与该凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟;定时选择器信号生成单元,用以生成多个定时选择器信号;跟踪误差信号生成单元,用以生成多个跟踪误差信号;线性跟踪误差信号生成单元,用以生成线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号;跟踪伺服控制单元,用以执行跟踪伺服控制;以及偏移量进给单元,用以向跟踪伺服环路进给偏移量。
搜索关键词: 光斑 位置 控制 装置 方法
【主权项】:
一种光斑位置控制装置,其包括:光照射与光感应单元,所述光照射与光感应单元经由物镜向光记录介质照射第一光,并且感应来自所述光记录介质的所述第一光的反射光,所述光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔且被形成为螺旋形或同心圆形并且沿半径方向配置的凹坑串,其中所述凹坑可成形位置在凹坑串成形方向上的间隔被设定为偏移预定的第二间隔,使得所述光记录介质具有多个凹坑串相位;跟踪机构单元,所述跟踪机构单元使所述物镜沿上述半径方向位移;时钟生成单元,所述时钟生成单元基于由所述光照射与光感应单元对所述第一光的反射光进行感应所获得的光感应器信号,生成与所述凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟;定时选择器信号生成单元,所述定时选择器信号生成单元基于由所述时钟生成单元生成的时钟,生成多个定时选择器信号,其中所述多个定时选择器信号分别表示针对形成在所述光记录介质上的各相位的凹坑串的、所述凹坑可成形位置的定时;跟踪误差信号生成单元,所述跟踪误差信号生成单元基于针对所述第一光的反射光的所述光感应信号和所述定时选择器信号生成单元生成的所述定时选择器信号,生成多个跟踪误差信号,其中所述多个跟踪误差信号分别表示形成在所述光记录介质上的、具有相应相位的凹坑串中的跟踪误差;线性跟踪误差信号生成单元,所述线性跟踪误差信号生成单元通过依次连接所述第一光的照射光斑沿半径方向移动时所获得的所述多个跟踪误差信号的零交叉点附近区间中的信号,生成线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号;跟踪伺服控制单元,所述跟踪伺服控制单元基于所述线性跟踪误差信号,通过驱动所述跟踪机构单元对所述物镜执行跟踪伺服控制;以及偏移量进给单元,所述偏移量进给单元向跟踪伺服环路进给使所述照 射光斑沿半径方向移动的偏移量,其中所述跟踪伺服环路是所述跟踪伺服控制单元通过所述跟踪伺服控制而形成的。
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