[发明专利]富勒烯衍生物的制造方法无效
申请号: | 201110348736.4 | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN102557000A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 本杰明·弗瑞比;马库斯·赫默特;安妮特·彼得里希;马丁·赫梅诺;塞巴斯蒂安·斯科尔茨;里科·梅尔赫;塞利娜·奥瑟夫 | 申请(专利权)人: | 诺瓦莱德公开股份有限公司 |
主分类号: | C01B31/00 | 分类号: | C01B31/00;H01L51/46;H01L51/30;H01L51/54 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 张珂珂;郭国清 |
地址: | 德国德*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及富勒烯衍生物的制造方法。特别地,本发明描述了一种用于制造卤化富勒烯的改进方法,特征在于使富勒烯与至少一种卤原子反应。本发明包括一种用于选择性地获得卤化富勒烯且同时分离由此制得的卤化富勒烯的制造方法。本发明包括一种如下的制造方法,由其可以反应且同时分离相对大量的材料。本发明描述了使用富勒烯C60F36作为用于半导体有机组件中的空穴传输层的p-掺杂剂,其中所述半导体有机组件具有这种层布置:其包括电极和对电极,以及布置在电极和对电极之间的一系列有机层。 | ||
搜索关键词: | 富勒烯 衍生物 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制造富勒烯衍生物的方法,其中在反应器中使富勒烯与至少一种卤原子反应,其特征在于向所述反应器中添加至少一种另外的化学元素。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺瓦莱德公开股份有限公司,未经诺瓦莱德公开股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110348736.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。