[发明专利]甲基氢环硅氧烷的制备方法有效
| 申请号： | 201110350297.0 | 申请日： | 2011-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN102372736A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 李建勇;李凤仪;洪仁惠 | 申请（专利权）人： | 江西多林科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/21 | 分类号： | C07F7/21 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330319 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明提供了甲基氢环硅氧烷的制备方法，以甲基氢氯硅烷为原料，用低沸点烃类化合物为溶剂，在温度低于15℃和模板剂作用下进行水解缩聚反应，静置分层后，将有机相进行水洗，中和，先蒸馏出溶剂，再减压精馏，分别制得三甲基氢环三硅氧烷（D3H）、四甲基氢环四硅氧烷（D4H）、五甲基氢环五硅氧烷（D5H）和六甲基氢环六硅氧烷（D6H）。本发明的优点：不用醇类作溶剂，采用低沸点烃类作溶剂；使用价廉的模板剂，大大的降低生产成本；而且用不同性质的模板剂和溶剂可以制得各种以甲基氢环体为主的产品。 | ||
| 搜索关键词： | 甲基 氢环硅氧烷 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种甲基氢环硅氧烷的制备方法，其特征在于以烃基氢卤硅烷为原料，用烃类化合物为溶剂，将烃基氢卤硅烷在不断搅拌下滴入由水、模板剂和低沸点烃类化合物组成的混合溶剂中，在一定温度下进行水解缩聚反应，静置分出水层，将有机相用水洗涤再中和至pH为7，先蒸出溶剂，再减压精馏，分别制得三甲基氢环三硅氧烷（D3H）、四甲基氢环四硅氧烷（D4H）、五甲基氢环五硅氧烷（D5H）和六甲基氢环六硅氧烷（D6H）；烃基氢卤硅烷和溶剂的体积比为1:5；水和溶剂的体积比为1:3；烃基氢卤硅烷与模板剂的摩尔比为1:0.01至0.15；精馏剩余的残液和线型聚硅氧烷在酸或碱催化下开环重排后返回至水解液再行精馏。
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