[发明专利]均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法有效
| 申请号： | 201110350587.5 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102375238A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 朱菁;陈明;黄惠杰;曾爱军;胡中华;杨宝喜;肖艳芬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于紫外光刻机照明系统产生均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法，所述的微柱面镜阵列，包括母线方向分别沿Y和X方向的第一微柱面镜阵列和第二微柱面镜阵列，分别用于产生Y和X方向的均匀光强分布，所述的微柱面镜阵列的表面为凸柱面透镜及其之间的凹形接缝平滑连接的周期排列结构。本发明提高了光刻机照明系统的照明均匀性，有利于降低加工和装配的成本。该设计方法适用于任何紫外光波段的微柱面镜阵列设计。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 照明 柱面 阵列 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种均匀照明的微柱面镜阵列，该微柱面镜阵列置于紫外光刻机的入射光束和聚光镜(202)之间，其特征在于该微柱面镜阵列的构成包括第一光学基底(101)和第二光学基底(102)，所述的第一光学基底(101)和第二光学基底(102)均垂直于光轴放置，第一光学基底(101)和第二光学基底(102)的中心线位于光轴上；每块光学基底垂直于光轴的前表面和后表面均完全被所述的微柱面镜阵列所覆盖，所述的微柱面镜阵列的表面为凸柱面透镜及其之间的凹形接缝平滑连接的周期排列结构；单块微柱面镜阵列前表面上的微凸柱面透镜的面形结构和后表面上的微凸柱面透镜的面形结构成镜面对称，且后表面位于前表面微凸柱面透镜的像方焦面，所述的第一光学基底(101)前表面和后表面上的微凸柱面透镜和凹形接缝的母线方向沿X轴或Y轴方向；第二光学基底(102)上的微凸柱面透镜和凹形接缝的母线方向则沿Y轴或X轴方向，所述的聚光镜(202)的物方焦面位于所述的第一光学基底(101)后表面和第二光学基底(102)后表面之间的某一位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110350587.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
