[发明专利]一种活性阴极的制造方法无效
申请号: | 201110352086.0 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102363892A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
发明(设计)人: | 王宇;汪长征;岳冠华 | 申请(专利权)人: | 北京建筑工程学院 |
主分类号: | C25D5/12 | 分类号: | C25D5/12;C25B1/34;C25B11/04;C25B11/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100044*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种活性阴极的制造方法,包括如下步骤:提供导电基底;在所述导电基底外表面上形成镍预镀层;在所述镍预镀层外表面上形成镍复合镀层。本发明的方法形成的活性阴极具有良好催化活性而且高强度、结构稳定。 | ||
搜索关键词: | 一种 活性 阴极 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种活性阴极的制造方法,其特征在于包括如下步骤:提供导电基底;在所述导电基底外表面上形成镍预镀层;在所述镍预镀层外表面上形成镍复合镀层。
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