[发明专利]使用拼接的多光源的光刻装置有效
| 申请号： | 201110353676.5 | 申请日： | 2011-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN103105737A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 韩雨青 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种使用拼接的多光源的光刻装置，包括光源模块、掩模和镜头，光源模块具有多个光源、与多个光源对应的整形光学组件、光源组合元件和匀光部件，从各个光源出射的光经对应的整形光学组件整形后入射至光源组合元件后出射至匀光部件，经匀光部件匀光后作为光刻装置的光源模块的出射光。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 拼接 光源 光刻 装置 | ||
【主权项】：
一种使用拼接的多光源的光刻装置，包括光源模块，掩模和镜头，其特征在于，所述光源模块具有多个光源、与多个光源对应的整形光学组件和匀光部件，从各个光源出射的光经对应的整形光学组件整形后入射至匀光部件，经匀光部件匀光后作为光刻装置的光源模块的出射光。
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