[发明专利]一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法

摘要

本发明提供一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法，具体步骤为：确定优化光刻配置参数以及光刻性能综合评价函数；在给定的所搜方向上更新一维搜索范围，在一维搜索范围内进行一维搜索，获取最小光刻性能综合评价函数对应的光刻配置参数点；获取新的一维搜索方向并进行一维搜索，获取最小光刻性能综合评价函数对应的光刻配置参数点；当循环次数达到最大或满足精度要求时，则结束优化。本发明统筹考虑各种光刻评价指标，通过构造具有多种光刻性能评价指标的评价函数，实现对优化结果进行评价，因此使得优化后的光刻配置参数可实现很好的光刻性能。

主权项

1.一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、确定欲优化的n种光刻配置参数，针对每一种光刻配置参数选定一初始值构成包含n维元素的点{x_i}_(k，1)＝{x₁，x₂，L x_n}_(k，1)，i＝{1，2，L，n}，并令循环次数k＝1；确定每种光刻配置参数的变化范围{x_i∈[a_i，b_i]}＝{[a₁，b₁]，[a₂，b₂]L，[a_n，b_n]}，给定优化精度允许误差ε＞0，最大一维搜索次数k_max；步骤102、确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标y_j，j＝{1，2，L，m}，并构造光刻性能综合评价函数其中γ_j为针对各光刻性能评价指标设定的比重值；步骤103、设定本循环第一次搜索点步骤104、设变量r∈{1，2，L，n}，取r为{1，2，L，n}内未被遍历的数，选定搜索方向d^(k，r)，其中d^(k，r)为{c_i}＝{c₁，c₂，L，c_n}，当i＝r时，c_i＝1，否则c_i＝0；根据和{[a_i，b_i]}，更新d^(k，r)所对应的一维搜索变化范围为{x_i∈[u_i，v_i]}_(k，r)，且{[ui,vi]}(k,r)⊆{[ai,bi]};]]>步骤105、从点出发，沿方向d^(k，r)在{[u_i，v_i]}_(k，r)范围内进行一维搜索，得到在d^(k，r)方向上最小的F值，记为F_min，并获取F_min对应的点步骤106、判断变量r是否取遍1至n上的所有正整数，若是则令进入步骤107，否则令返回步骤104；步骤107、重新获取搜索方向并进一步判断的大小，其中‖‖为取模运算，若则进入步骤110；否则进入步骤108；步骤108、设定本循环中第二次搜索点根据和{[a_i，b_i]}，更新所对应的一维搜索变化范围为且步骤109、从点出发，沿方向在{[u_i，v_i]}_(k，n+1)范围内进行一维搜索，得到方向上最小的F值，记为F_min，并获取F_min对应的点{x_i}_(k，1)，并将点{x_i}_(k，1)作为下次循环的第一次搜索点，令k＝k+1，并返回步骤103；步骤110、输出点{x_i}_(k，n+1)，以及点{x_i}_(k，n+1)对应的F值，优化结束。