[发明专利]测试光掩模板及其应用

摘要

本发明涉及一种测试光掩模板，用于测试当前金属层的平坦度与图形密度的关系，所述测试光掩模板的版图由nxm个区域构成，每个所述区域具有不同的图形密度，每个区域包括孤立线条、孤立线条两侧的亚分辨率辅助图形和可分辨率辅助图形、半密集线条、密集线条和冗余图形阵列。本发明使用具有金属层冗余金属填充应用功能、扩大光刻工艺窗口功能和监测光刻工艺中产生缺陷功能的测试光掩模板，有效的扩大光刻工艺窗口且改善金属层化学机械研磨的局部区域平坦度、提高金属层冗余金属填充设计和金属层化学机械研磨工艺开发的效率，提高预测经过化学机械研磨后金属层平坦度和需要的图形密度调整的效率，同时减少光刻工艺中所使用测试光掩模的成本。

主权项

一种测试光掩模板，用于测试当层金属层的平坦度与图形密度的关系，其特征在于：所述测试光掩模板的版图由nxm个区域构成，每个所述区域具有不同的图形密度，每个区域包括孤立线条、孤立线条两侧的亚分辨率辅助图形和可分辨率辅助图形、半密集线条、密集线条和冗余图形阵列，其中n为大于等于1的整数，m为大于等于1的整数。