[发明专利]金属研磨保护装置及保护方法、化学机械研磨系统有效
申请号: | 201110357956.3 | 申请日: | 2011-11-11 |
公开(公告)号: | CN103100964A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 陈枫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/34 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种金属研磨保护装置及保护方法、化学机械研磨系统。所述金属研磨保护装置用于保护CMP设备中的晶圆,包括:喷淋头,所述喷淋头包括多个喷嘴;喷淋管,连接所述喷淋头,用于为所述喷淋头提供对晶圆的保护物质;控制器,连接所述CMP设备和喷淋管,当所述CMP设备停机但仍可控制晶圆进行上升和旋转时,所述控制器控制CMP设备,使晶圆进行上升;且移动所述喷淋管使所述喷淋头位于CMP设备中晶圆待研磨面的下方,并控制所述喷淋管的开启和关闭。本发明在采用CMP设备进行金属研磨而中途停机时,可以有效保护晶圆不受金属腐蚀。 | ||
搜索关键词: | 金属 研磨 保护装置 保护 方法 化学 机械 系统 | ||
【主权项】:
一种金属研磨保护装置,其特征在于,用于保护CMP设备中的晶圆,包括:喷淋头,所述喷淋头包括多个喷嘴;喷淋管,连接所述喷淋头,用于为所述喷淋头提供对晶圆的保护物质;控制器,连接所述CMP设备和喷淋管,当所述CMP设备停机但仍可控制晶圆进行上升和旋转时,所述控制器控制CMP设备,使晶圆进行上升,且移动所述喷淋管使所述喷淋头位于CMP设备中晶圆待研磨面的下方,并控制所述喷淋管的开启和关闭。
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