[发明专利]用于环形发光二极管阵列的二次光学装置无效
| 申请号： | 201110361665.1 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN103104884A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 蒋金波;江文达 | 申请（专利权）人： | 惠州元晖光电股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V7/00 | 分类号： | F21V7/00;F21V13/02;F21V19/00;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 北京金思港知识产权代理有限公司 11349 | 代理人： | 邵毓琴 |
| 地址： | 516000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于环形发光二极管(LED)阵列的二次光学装置，该装置包括：呈圆形地布置在一平面上的多个LED；以及具有环形反射面的反射器，该反射器定向在所述LED之上，使得从所述LED发射出的光的一部分由所述环形反射面向侧面和后面反射，以形成在所述平面之上和之下具有光分布的径向向外散射光束，并且从所述LED发射出的光的另一部分被向前引导而形成向前投射光束。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 环形 发光二极管 阵列 二次 光学 装置 | ||
【主权项】：
一种用于环形发光二极管阵列的二次光学装置，该装置包括：(a)呈环形地布置在一平面上的多个发光二极管(LED)；以及(b)具有环形反射面的反射器，该反射器定向在所述LED之上，使得从所述LED发射出的光的一部分由所述环形反射面向侧面和后面反射，以形成在所述平面之上和之下具有光分布的径向向外散射光束，并且从所述LED发射出的光的另一部分被向前引导而形成向前投射光束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州元晖光电股份有限公司，未经惠州元晖光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110361665.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种对配重块条料加工的装置
- 下一篇：新型内喷式刷辊
