[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜有效
| 申请号： | 201110361741.9 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102540727A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 吴明儒;施俊安 | 申请（专利权）人： | 奇美实业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，其中，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于400～100,000的讯号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量介于10,000～80,000者占25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占光硬化性聚硅氧烷组成物的0～10wt％。本发明还提供一种具有该保护膜的元件。该光硬化性聚硅氧烷组成物可具有较佳显影性及适当软化点，其后续所形成的保护膜在经过后烤后，能形成不易塌陷的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 化性 聚硅氧烷 组成 及其 形成 基材 保护膜 | ||
【主权项】：
一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，包含：聚硅氧烷高分子(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；及溶剂(C)；以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于400～100,000的讯号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量介于10,000～80,000者占25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占该光硬化性聚硅氧烷组成物的0～10wt％。
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