[发明专利]量子点曝光板及应用所述量子点曝光板的光刻工艺

摘要

本发明公开了一种量子点曝光板，其包含一基板、一量子点阵列、多条行控制线及多条列控制线。所述行控制线及列控制线可控制所对应的量子点发光使得所述量子点阵列呈现出一发光图形以在无光掩模的环境下曝光一光阻。

主权项

一种量子点曝光板，其特征在于，包含：一基板；一量子点阵列，其设在所述基板上并由多行量子点或多列量子点组成；多条行控制线，所述每一行控制线对应地电性连接至所述多行量子点中的其中一行并提供一行控制电压；及多条列控制线，所述每一列控制线对应地电性连接至所述多列量子点中的其中一列并提供一列控制电压，其中所述行控制电压与所述列控制电压可控制所对应的量子点发光使得所述量子点阵列呈现出一发光图形以曝光一光阻。