[发明专利]一种可调节磁靴的磁控溅射靶无效
| 申请号： | 201110362599.X | 申请日： | 2011-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN102352486A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 邹定嵩;周学卿 | 申请（专利权）人： | 东莞市润华光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523795 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调节磁靴的磁控溅射靶，包括有阴极座、磁靴、磁靴连接块，磁靴装在阴极座上，磁靴连接块连接着分离磁靴，其特征在于：磁靴分离三段并排，中间一段为可调节磁靴。本发明由于磁靴分离式可调结构，调动中间磁靴可以增强中间磁场强度，不会减小两端的磁场强度，解决镀膜厚度均匀性问题；同时能够在镀AR膜时，少靶位的情况下使用一对Nb2O5靶位，而把原来的部分Nb2O5靶位换成多晶硅靶位提高生产效率，增大产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种可调节磁靴的磁控溅射靶，包括有阴极座（5）、磁靴（1、2、3）、磁靴连接块（4），磁靴（1、2、3）装在阴极座（5）上，磁靴连接块（4）连接着磁靴（1、2）以及磁靴（2、3），其特征在于：磁靴（1、2、3）分离三段并排，中间一段为可调节磁靴（2）。
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