[发明专利]曝光装置以及曝光方法无效

专利信息
申请号: 201110364683.5 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN102540575A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 根本亮二 申请(专利权)人: 株式会社日立高科技
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1333
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 将光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)设置于光罩(2)的上表面或下表面,将曝光光束倾斜地从光罩(2)照射至基板(1),所述光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束透过,且使曝光光束的前进方向倾斜。各种光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束的前进方向分别向不同的方向倾斜。
搜索关键词: 曝光 装置 以及 方法
【主权项】:
一种配向膜的曝光装置,包括:支撑着基板的夹具、保持着光罩的光罩固定架、以及照射出直线偏光的曝光光束的曝光光束照射装置,在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙,将从所述曝光光束照射装置照射出的直线偏光的所述曝光光束经由所述光罩而照射至所述基板,使涂布于所述基板的配向膜产生调整液晶的排列方向的配向特性,所述配向膜的曝光装置的特征在于:将光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,将所述曝光光束倾斜地从所述光罩照射至所述基板,所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束透过,且使所述曝光光束的前进方向倾斜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高科技,未经株式会社日立高科技许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110364683.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top