[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201110365216.4 | 申请日： | 2011-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN103114265A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 蒋焕梧;陈正士;刘扬佳 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，其包括镁或镁合金基材及形成于镁或镁合金基材表面的镀膜层，该镀膜层为掺杂稀土元素镧并含有镍、锰元素的薄膜，其中镧、镍与锰的摩尔比为镧：镍：锰=0.5~4：9~16：0.5~2。本发明还提供了一镀膜件的制备方法。该镀膜层具有良好储氢性能。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括镁或镁合金基材及形成于镁或镁合金基材表面的镀膜层，其特征在于：该镀膜层为掺杂稀土元素镧并含有镍、锰元素的薄膜，其中镧、镍与锰的摩尔比为：镧：镍： 锰=0.5~4：9~16：0.5~2。
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