[发明专利]像素结构、阵列基板及其制作方法

摘要

一种像素结构包括一基板、一第一金属图案层、一绝缘层、一第二金属图案层、一保护层以及一导电性保护层。基板具有至少一像素区。第一金属图案层设于基板上，且具有一上表面。绝缘层设于第一金属图案层与基板上，且与第一金属图案层的上表面接触。第二金属图案层设于像素区的绝缘层上，且第二金属图案层包括一源极与一漏极。保护层设于第二金属图案层与绝缘层上，其中源极的一上表面是与保护层直接接触。导电性保护层设于漏极上。

主权项

一种像素结构，其特征在于，包括：一基板，具有至少一像素区；一第一金属图案层，设于该基板上，且该第一金属图案层具有一上表面；一绝缘层，设于该第一金属图案层与该基板上，且该绝缘层与该第一金属图案层的该上表面接触；一半导体图案层，设于该像素区中的该绝缘层上；一第一导电性保护层，设于该半导体图案层上；一第二金属图案层，设于该第一导电性保护层上，且该第二金属图案层包括一源极与一漏极；一保护层，设于该第二金属图案层与该绝缘层上，其中该源极的一上表面是与该保护层直接接触；一第二导电性保护层，设于该漏极上；以及一透明导电图案层，设于该保护层与该第二导电性保护层上。