[发明专利]一种黄瓜无土栽培方法无效

专利信息
申请号: 201110367503.9 申请日: 2011-11-18
公开(公告)号: CN102499042A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 孙培军;王新宁 申请(专利权)人: 大连得达科技发展有限公司
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00;A01C1/00;A01G13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 116000 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于农作物无土栽培领域,具体涉及一种黄瓜无土栽培基质。本发明的分为是处理种子、制作基质和育苗、定植和植株管理、适时采收四个步骤,其中基质和营养液都是自主调配的,基质是由菇渣和河砂或腐熟木康和河砂以体积比2:1混合,营养液是各种作物所需的营养成分进行混合,按需使用。本发明的有益效果是黄瓜的栽培不受土壤要求,在贫瘠和干旱土地也可以种植,灌溉施肥比较准确,可根据作物的具体情况进行调节,减少化肥和农药的使用,从而减少对人体的伤害和对环境的污染。
搜索关键词: 一种 黄瓜 无土栽培 方法
【主权项】:
一种黄瓜无土栽培方法,其特征在于,分为四个步骤:1)处理种子:将种子在50‑60℃的水中浸泡10分钟,清洗干净,在25‑28℃中浸泡4‑6小时,再置于28‑30℃下催芽,12小时后发芽,选取芽长为5毫米种子进行播种;2)制作基质和育苗:准备基质,采用无土穴盘育苗,对基质和无土穴盘进行杀菌;将基质加水混合装入无土穴盘,播种深度为1‑1.5厘米,在种子上覆盖1‑2厘米基质,清水浇透;出苗后,白天温度保持在23‑25℃,夜间温度保持在16‑18℃,相对湿度保持在80‑85%,均匀浇水,在长至2叶1心时喷洒一次低浓度的爱多收; 3)定植和植株管理: 3.1定植:配置营养液,在定植前2‑3天喷洒足量的营养液,选用和步骤2中相同的基质,在地温15℃以上进行定植,定植深度以子叶离畦面5厘米为准,定植后控水2‑3天,之后两周内大量浇灌; 3.2肥水调控:根据作物不同生长期及不同的天气状况,控制灌溉量和灌溉浓度,灌溉量的标准为pH值6.0‑6.5、硝酸根浓度为205‑500mg/L;3.3植株调整:植株长到4~5叶时开始吊绳引蔓,从第六节开始留瓜,1~5节位的侧枝和花要摘除,同时打掉基部过多的叶片和黄叶;引蔓每3‑5天进行一次,摘除畸型瓜,每节留l‑2条瓜,侧枝留1叶后摘心,植株过高时将下部老叶摘除;3.4病虫害防治;3.5光温管理:夏季要通风换气,遮阳降温,白天温度保持25—30℃,夜间15—18℃,地温保持在21℃,冬春季要封膜保温;生长后期温度超过35℃时,把大棚四周的薄膜揭开通风;保持棚膜光洁;4)适时采收:当黄瓜的长度为13—18厘米,直径为2—3厘米,单瓜重80克,在花开始凋谢时采收;每天采摘一次;高温炎热时,每天上、下午各采摘一次。
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