[发明专利]背光系统有效

专利信息
申请号: 201110367545.2 申请日: 2011-11-18
公开(公告)号: CN102374491B 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 萧宇均;郭仪正;黄冲 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: F21V7/22 分类号: F21V7/22;F21V17/00;F21S8/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦;丁建春
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种背光系统。该背光系统包括反射板以及承载反射板的背框,其中,背框包括至少两个主拼接件,该至少两个主拼接件拼接形成背框的主框架;反射板包括基材层和设置于基材层上的反射层,其中,基材层为楞形、波浪形或方波形结构。通过上述方式,本发明的反射板及背光系统采用具有多个起伏结构的基材层,如楞形、波浪形或方波形结构的基材层,提高反射板的刚性,从而改善反射板组装后由于易于塌陷而引起反射品质不高并导致背光效果不佳的问题。
搜索关键词: 背光 系统
【主权项】:
一种背光系统,其特征在于:所述背光系统包括反射板以及承载所述反射板的背框,其中,所述背框包括至少第一、第二两个主拼接件,所述至少两个主拼接件拼接形成背框的主框架;所述第一主拼接件的一端设有至少两个拼接部,为所述第二主拼接件提供拼接选择,每个所述拼接部的结构与相应的所述第二主拼接件的一端适配,所述第一主拼接件通过其一拼接部与相应的所述第二主拼接件的一端拼接,所述第二主拼接件能够通过选择不同的拼接部进行拼接,并在拼接后将所述第一主拼接件中位于所述第二主拼接件的拼接位置外侧的其他所述拼接部裁切掉以获得不同尺寸的背框;所述反射板包括基材层和设置于所述基材层上的反射层,所述基材层具有多个起伏结构。
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