[发明专利]具有电可变的扩展景深的光学器件有效
| 申请号： | 201110369763.X | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102455509A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 保罗·E·X·希尔维拉 | 申请（专利权）人： | 全视技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B27/64;G02B27/52 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;王艳春 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种具有电可变的扩展景深的光学器件。提供具有可变的扩展景深(EDOF)的光学器件的系统和方法。该光学器件包括：光学透明的液晶层；光学透明的相位掩模板，与液晶层光学对齐，并通过光学透明的基板与液晶层隔开；光学透明的折射率匹配层，相邻于相位掩模板的一个表面而设置，并具有与相位掩模板的折射率基本匹配的折射率；以及一对电极，用于生成作用于液晶层以与施加至电极的信号的幅度成比例地改变光学系统的景深的电场。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 可变 扩展 景深 光学 器件 | ||
【主权项】：
提供扩展景深的光学系统，包括：光学透明的液晶层；光学透明的介电相位掩模板，与所述液晶层光学对齐，并通过光学透明的基板与所述液晶层隔开；光学透明的介电折射率匹配层，相邻于所述相位掩模板的一个表面而设置，并具有与所述相位掩模板的折射率基本匹配的折射率；以及一对电极，用于生成作用于所述液晶层以与施加至所述电极的信号的幅度成比例地改变所述光学系统的景深的电场，其中所述液晶层和所述相位掩模板设置在所述一对电极之间。
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