[发明专利]制备热障涂层结构的方法无效
申请号: | 201110372539.6 | 申请日: | 2011-10-10 |
公开(公告)号: | CN102534457A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | K·冯尼森;M·金德拉特;R·C·施密德 | 申请(专利权)人: | 苏舍美特科公司 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;林毅斌 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 为了在基材表面上制备热障涂层结构(10),提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2),等离子体射流(5)这样产生:等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电、电磁感应或微波加热,并且等离子体射流(5)被导向至该引入工作腔室中的基材(3)的表面。为了制备热障涂层,在等离子体炬(4)和基材(3)之间另外施加电压以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面,其中在电弧清洁后该基材(3)保持在工作腔室中并且在经清洁的基材表面上产生具有0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11),和在附加步骤中通过等离子体喷涂方法施加热障涂层(12)。 | ||
搜索关键词: | 制备 热障 涂层 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种在基材表面制备热障涂层结构(10)的方法,其中‑提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2);‑等离子体射流(5)这样产生:等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电和/或电磁感应和/或微波进行加热;和‑使等离子体射流(5)导向至该被引入工作腔室中的基材(3)的表面,其特征在于:‑在等离子体炬(4)和基材(3)之间施加电压,以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面;‑在电弧清洁后,基材(3)保持在工作腔室中并且在以这种方式清洁的基材表面上产生具有0.02μm至5μm,特别地0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11),和‑在附加的步骤中,通过等离子体喷涂方法施加至少一个热障涂层(12)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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