[发明专利]制备热障涂层结构的方法无效

专利信息
申请号: 201110372539.6 申请日: 2011-10-10
公开(公告)号: CN102534457A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: K·冯尼森;M·金德拉特;R·C·施密德 申请(专利权)人: 苏舍美特科公司
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12;C23C4/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄念;林毅斌
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 为了在基材表面上制备热障涂层结构(10),提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2),等离子体射流(5)这样产生:等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电、电磁感应或微波加热,并且等离子体射流(5)被导向至该引入工作腔室中的基材(3)的表面。为了制备热障涂层,在等离子体炬(4)和基材(3)之间另外施加电压以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面,其中在电弧清洁后该基材(3)保持在工作腔室中并且在经清洁的基材表面上产生具有0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11),和在附加步骤中通过等离子体喷涂方法施加热障涂层(12)。
搜索关键词: 制备 热障 涂层 结构 方法
【主权项】:
一种在基材表面制备热障涂层结构(10)的方法,其中‑提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2);‑等离子体射流(5)这样产生:等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电和/或电磁感应和/或微波进行加热;和‑使等离子体射流(5)导向至该被引入工作腔室中的基材(3)的表面,其特征在于:‑在等离子体炬(4)和基材(3)之间施加电压,以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面;‑在电弧清洁后,基材(3)保持在工作腔室中并且在以这种方式清洁的基材表面上产生具有0.02μm至5μm,特别地0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11),和‑在附加的步骤中,通过等离子体喷涂方法施加至少一个热障涂层(12)。
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