[发明专利]具有硫属化物梯度的含硫属化物半导体有效

专利信息
申请号: 201110372949.0 申请日: 2011-11-10
公开(公告)号: CN102468438A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 达维德·埃尔贝塔 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 宋献涛
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及具有硫属化物梯度的含硫属化物半导体。可形成具有在硫属化物膜与另一膜之间的梯度膜的含硫属化物半导体装置。所述梯度膜可使其硫属化物浓度随着其延伸远离所述硫属化物膜而减小,而另一膜材料的浓度跨越所述梯度膜的厚度随移动远离所述硫属化物膜而增加。
搜索关键词: 具有 硫属化物 梯度 含硫属化物 半导体
【主权项】:
一种方法,其包括:形成具有在硫属化物与另一膜之间的梯度膜的含硫属化物半导体装置,使得硫属化物的浓度跨越所述梯度膜的厚度而改变。
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