[发明专利]背接触硅太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110373861.0 申请日: 2011-11-22
公开(公告)号: CN102403405A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 吴坚;王栩生;章灵军 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋;陆金星
地址: 215129 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种背接触硅太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:(1)在硅片表面开设孔洞,然后在其受光面进行制绒;(2)在硅片的受光面扩散制结,在硅片受光面、周边及孔洞内形成PN结;(3)在硅片受光面、周边和孔洞内的PN结上设置透明导电膜;(4)对硅片周边进行刻蚀,去除硅片周边的透明导电膜和PN结;然后在硅片受光面的透明导电膜上镀设减反射膜;(5)在硅片的非镀膜面上制备贯孔电极、背金属电极、背钝化场,即可得到所述背接触硅太阳能电池。本发明制备得到的背接触硅太阳能电池的受光面没有电极遮挡,避免了遮光损失,显著提高了光电转化效率;需要开设的孔洞也大大减少,从而大大降低了碎片率,而且简化了制备工序。
搜索关键词: 接触 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种背接触硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 在硅片的受光面进行制绒,然后开设孔洞;(2) 在上述硅片的受光面扩散制结,在硅片受光面、周边及孔洞内形成PN结;(3) 去除磷硅或硼硅玻璃后,在上述硅片受光面、周边和孔洞内的PN结上设置透明导电膜;(4) 对硅片周边进行刻蚀,去除硅片周边的透明导电膜和PN结;然后在硅片受光面的透明导电膜上镀设减反射膜;(5) 在上述硅片的非镀膜面上制备贯孔电极、背金属电极、背钝化场,即可得到所述背接触硅太阳能电池;所述贯孔电极与透明导电膜电连通。
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