[发明专利]一种基于测量位自转调向的双工件台回转交换方法与装置

摘要

一种基于测量位自转调向的双工件台回转交换方法与装置属于半导体制造装备技术领域，该装置包含一个回转换台装置，其机械结构包括设置于基台之下的旋转电机定子、贯穿基台的旋转电机动子、嵌入基台内的轴套以及硅片台转接装置，该回转换台装置实现光刻机硅片台位置交换，具有结构简单、换台节拍少、转动惯量小、双台切换时间短等优点；该装置在硅片台内部设置有硅片台自旋机构，其结构包括硅片台旋转轴以及硅片台自旋电机，在基台的测量位设置有可升降的轴接装置，硅片台自旋机构和轴接装置可以实现硅片台自旋，解决了以往旋转换台方案硅片台相位反转与光学系统配套难的问题。

主权项

一种基于测量位自转调向的双工件台回转交换方法，其特征在于该方法步骤是：系统初始状态为处于曝光工位的第一工件台曝光完毕，测量位的第二工件台对准完毕，并规定此时工件台相位为正，接下来进行双工件台换位；第一步，将第二工件台驱动到第二工件台旋转轴与轴接装置对接的预定位置，对接成功后，利用第二工件台自旋机构使第二工件台逆时针或顺时针旋转180°，此时第二工件台为负相位，然后再与X向第二长行程直线运动单元对接；第二步，第一工件台、第二工件台沿Y轴同步相向驱动至与回转换台装置对接的预定位置，并同步可靠对接，然后回转换台装置携第一工件台、第二工件台绕回转轴O‑O′顺时针或逆时针回转180°，此时第二工件台恢复到正相位，第一工件台变为负相位；第三步，第一工件台、第二工件台与回转换台装置分离，驱动第二工件台至曝光工位进行曝光处理，驱动第一工件台至第一工件台旋转轴与轴接装置对接的预定位置，对接成功后，利用第一工件台自旋机构使第一工件台逆时针或顺时针旋转180°，使之变为正相位并进行卸片、上片，之后系统回到初始状态，完成一个工作周期。接下来为下一轮曝光工序，即重复上面的工序和换台流程，但旋转方向与上次相反。