[发明专利]场发射显示器及其显示阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110378969.9 申请日: 2011-11-21
公开(公告)号: CN102436992A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 陈宗汉;邱胜正 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李琳;张龙哺
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种场发射显示器及其显示阵列基板的制造方法,此显示阵列基板的制造方法包括以下步骤。提供一具有一介电层的基材。将多个高分子颗粒附着于介电层上。以氧等离子体处理附着的高分子颗粒,以减小每一高分子颗粒的粒径,使这些高分子颗粒彼此分离。形成一栅极层覆盖介电层以及附着其上的高分子颗粒。移除附着在介电层上的高分子颗粒,而在栅极层中形成多个开口暴露出一部分的介电层。移除暴露部分的介电层,以在介电层中形成多个孔洞。于每一孔洞中形成一发射器。本发明同时具有提高亮度以及减少缺陷的优点。
搜索关键词: 发射 显示器 及其 显示 阵列 制造 方法
【主权项】:
一种显示阵列基板的制造方法,适用于一场发射显示器,包含:提供一基材,该基材包含一介电层;附着多个高分子颗粒于该介电层上;以氧等离子体处理所述多个附着的高分子颗粒,减小每一所述多个高分子颗粒的一粒径,使所述多个高分子颗粒彼此分离;形成一栅极层覆盖该介电层以及所述多个附着的高分子颗粒;移除所述多个附着的高分子颗粒,以于该栅极层中形成多个开口暴露出一部分的该介电层;移除该暴露部分的介电层,以于该介电层中形成多个孔洞;以及于每一所述多个孔洞中形成一发射器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110378969.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top