[发明专利]ITO的布线结构无效
| 申请号： | 201110380887.8 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102541378A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张开立;雷奥纳﹒波特曼;卓龙材 | 申请（专利权）人： | 苏州瀚瑞微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215163 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种ITO的布线结构，涉及两层ITO，且两层ITO之间是绝缘层，均布设在基底上，所述基底上设置桥接点，若在一个方向上所述电极块相互连接，那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接，所述电极块的内部被挖空形成空隙。本发明所述的ITO布线结构，不但简单，而且将传统电极块的内部挖空了一部分，所以增强了电容耦合，若在挖空的内部塞有填充物也一样可以增加电容耦合，增强所述整个ITO层的抗干扰能力。 | ||
| 搜索关键词： | ito 布线 结构 | ||
【主权项】：
一种ITO的布线结构，涉及两层ITO，且两层ITO之间是绝缘层，均布设在基底上，所述基底上设置桥接点，若在一个方向上所述电极块相互连接，那么在另一个方向上所述电极块就通过桥接的方式相互连接，其特征在于：所述电极块的内部被挖空形成空隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州瀚瑞微电子有限公司，未经苏州瀚瑞微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110380887.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
