[发明专利]光刻胶回收系统

摘要

本发明提供一种光刻胶回收系统，属于彩膜基板和阵列基板制造领域。光刻胶回收系统包括基板底盘及其上盖、位于基板底盘上的基板旋转盘、位于基板旋转盘上用于放置基板的基板卡槽以及用于接收基板旋转盘旋转过程中从基板上甩出的光刻胶的甩胶储槽，还包括：与所述甩胶储槽相连接的过滤装置，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于对从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶进行过滤；清洗装置，用于对所述甩胶储槽进行清洗；控制装置，用于在光刻胶回收阶段控制所述阀门导通，并控制所述清洗装置停止清洗甩胶储槽；在清洗阶段控制所述阀门关闭，并控制所述清洗装置清洗甩胶储槽。本发明实施例能够对光刻工艺中甩出的光刻胶进行回收。

主权项

一种光刻胶回收系统，包括基板底盘及其上盖、位于基板底盘上的基板旋转盘、位于基板旋转盘上用于放置基板的基板卡槽以及用于接收基板旋转盘旋转过程中从基板上甩出的光刻胶的甩胶储槽，所述基板底盘的上盖在基板旋转盘旋转过程中处于关闭状态，能够遮盖基板以及甩胶储槽，其特征在于，所述光刻胶回收系统还包括：与所述甩胶储槽相连接的过滤装置，通过设置有阀门的管道与所述甩胶储槽连通，用于对从所述甩胶储槽流出并通过所述管道流入的光刻胶进行过滤；清洗装置，用于对所述甩胶储槽进行清洗；控制装置，用于在光刻胶回收阶段控制所述阀门导通，并控制所述清洗装置停止清洗甩胶储槽；在清洗阶段控制所述阀门关闭，并控制所述清洗装置清洗甩胶储槽。